表面硬化処理装置事件

投稿日: 2018/07/25 1:31:19

今日は平成２９年（行ケ）第１０１１１号 審決取消請求事件について検討します。この事件は審決取消訴訟であり、本件判決に対して原告が上告しなかったために確定しています。

１．手続の時系列の整理（特許第5629436号）

２．特許請求の範囲（請求項２）

【請求項２】

処理炉（２）内で水素を発生するガスとしてはアンモニアガスのみを含む複数種類の炉内導入ガスを前記処理炉（２）内へ導入して、前記処理炉（２）内に配置した被処理品（Ｓ）の表面硬化処理としてガス窒化処理またはガス軟窒化処理を行う表面硬化処理装置であって、

前記処理炉（２）内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて、前記炉内ガスの水素濃度を検出する水素濃度検出手段（４）と、

前記水素濃度検出手段（４）が検出した水素濃度に基づいて前記アンモニアガスの炉内濃度を演算し、当該演算した炉内濃度の演算値に基づいて前記炉内ガスの組成である炉内ガス組成を演算する炉内ガス組成演算手段（２４）と、

前記炉内ガス組成演算手段（２４）が演算した炉内ガス組成と予め設定した設定炉内ガス混合比率に応じて、前記炉内ガス組成が前記設定炉内ガス混合比率となるように、前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉（２）内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉（２）内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段（２６）と、を備えることを特徴とする表面硬化処理装置。

３．審決の理由の要旨

（１）本件審決の理由は、別紙審決書（写し）記載のとおりである。要するに、本件訂正を認めた上、①本件発明１は、（ⅰ）下記アの引用例１に記載された発明（以下「引用発明１」という。）と同じ発明ではなく、（ⅱ）下記イの引用例２に記載された発明（以下「引用発明２」という。）と同じ発明ではなく、（ⅲ）引用発明１及び２に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない、②本件発明２は、引用発明１及び／又は引用発明２、並びに下記ウの引用例３及び下記エの引用例４に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない、③本件発明３は、引用発明１及び／又は引用発明２、並びに引用例３、４、下記オないしキの引用例５ないし７に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない、④本件各発明は、特許法３６条６項１号に規定する要件を満たす、というものである。

ア 引用例１：河田一喜「窒化ポテンシャル制御システム付きガス軟窒化炉」熱処理第４９巻２号（平成２１年４月２８日発行）（甲１）

イ 引用例２：Ｄｉｅｔｅｒ Ｌｉｅｄｔｋｅ ｕｎｄ ６ Ｍｉｔａｕｔｏｒｅｎ「Ｗａｅｒｍｅｂｅｈａｎｄｌｕｎｇ ｖｏｎ Ｅｉｓｅｎｗｅｒｋｓｔｏｆｆｅｎ Ｎｉｔｒｉｅｒｅｎ ｕｎｄ Ｎｉｔｒｏｃａｒｂｕｒｉｅｒｅｎ ３．、ｖｏｅｌｌｉｇ ｎｅｕ ｂｅａｒｂｅｉｔｅｔｅ Ａｕｆｌａｇｅ」（２００６年発行）（甲２）

ウ 引用例３：藤原雅彦「ガス浸炭における測定精度を向上したガス分析システム」熱処理第４４巻５号（平成１６年１０月２８日発行）（甲３）

エ 引用例４：特開２０００－７４７９８号公報（甲４）

オ 引用例５：特開平１０－５４７８４号公報（甲５）

カ 引用例６：特開２００７－４０７５６号公報（甲６）

キ 引用例７：特開２００９－１２９９２５号公報（甲７）

（２）引用発明

本件審決が認定した引用発明は、以下のとおりである。

ア 引用発明１

（ア）引用発明１－１（引用例１の図５）

ピット型のガス窒化・軟窒化炉の炉体に直接装着できる窒化センサによりガス軟窒化炉内の水素濃度をガスの熱伝導の違いにより分析し、目的の窒化ポテンシャルに自動制御できる窒化センサ制御システム付きピット型ガス軟窒化炉であり、前記窒化センサにより前記炉内の水素濃度を分析すれば窒化ポテンシャルを知ることができ、その窒化ポテンシャルが設定値となるように、マスフローコントローラーを介して前記ガス軟窒化炉に接続されたＮＨ３、Ｎ２、Ｈ２、ＮＨ３分解ガス、ＣＯ２、Ａｉｒのうち、ＮＨ３、Ｎ２、Ｈ２、ＮＨ３分解ガスから選ばれる、ガス種と導入ガス量とについての設定信号をマスフローコントローラーへ送ると炉内ガスを調整でき、窒化ポテンシャルを自動制御できるという窒化センサ制御システム付きピット型ガス軟窒化炉において、ＮＨ３とＮ２のみを使用し、窒化温度５７０℃にて炉内の水素濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、それぞれ、初期には２８Ｖｏｌ％、４．２制御、中期には４０Ｖｏｌ％、１．８制御、後期には５０Ｖｏｌ％、０．９制御となるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整すると、水素濃度についての測定値及びその測定値から求まる窒化ポテンシャルの値についての時間の推移に伴う小刻みな変動が、前記初期には、２８Ｖｏｌ％付近、４．２付近で、前記中期には、４０Ｖｏｌ％付近、１．８付近で、前記後期には、５０Ｖｏｌ％付近、０．９付近で、それぞれ生じる、窒化センサ制御システム付きピット型ガス軟窒化炉。

（イ）引用発明１－２（引用例１の図７）

バッチ型のガス窒化・軟窒化炉の炉体に直接装着できる窒化センサによりガス軟窒化炉内の水素濃度をガスの熱伝導の違いにより分析し、目的の窒化ポテンシャルに自動制御できる窒化センサ制御システム付きバッチ型ガス軟窒化炉であり、前記窒化センサにより前記炉内の水素濃度を分析すれば窒化ポテンシャルを知ることができ、その窒化ポテンシャルが設定値となるように、マスフローコントローラーを介して前記ガス軟窒化炉に接続されたＮＨ３、Ｎ２、Ｈ２、ＮＨ３分解ガス、ＣＯ２、Ａｉｒのうち、ＮＨ３、Ｎ２、Ｈ２、ＮＨ３分解ガスから選ばれる、ガス種と導入ガス量とについての設定信号をマスフローコントローラーへ送ると炉内ガスを調整でき、窒化ポテンシャルを自動制御できるという窒化センサ制御システム付きバッチ型ガス軟窒化炉において、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２のみを使用し、窒化温度５８０℃にて炉内の水素濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、それぞれ、初期は１５Ｖｏｌ％、７．５制御、後期には２３Ｖｏｌ％、３．１制御となるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整すると、水素濃度についての測定値及びその測定値から求まる窒化ポテンシャルの値についての時間の推移に伴う小刻みな変動が、前記初期には、１５Ｖｏｌ％付近、７．５付近で、前記後期には、２３Ｖｏｌ％付近、３．１付近で、それぞれ生じる、窒化センサ制御システム付きバッチ型ガス軟窒化炉。

イ 引用発明２

ＮＨ３とＮ２とＣＯ２とが、それぞれ、５０％、４５％、５％混合された、ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスによる軟窒化のための制御装置であって、ＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒを用いて測定された炉内水素濃度Ｈ２を利用して計算される、９から４の間の窒化ポテンシャルＫＮを基準にして前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量が最大ないし最小許容ガス投入量の限界領域内で調整でき、前記窒化ポテンシャルＫＮが４に設定されると、前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量は最小許容ガス投入量に調整され、前記窒化ポテンシャルＫＮが９に設定されると、前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量は最大許容ガス投入量に調整される制御装置。

（３）本件各発明と引用発明との対比

本件審決が認定した本件発明１、２と引用発明１、２との一致点及び相違点は、次のとおりである。

ア 本件発明１と引用発明１－１との一致点及び相違点

（ア）一致点

処理炉内で水素を発生するガスとしてはアンモニアガスのみを含む複数種類の炉内導入ガスを前記処理炉内へ導入して、前記処理炉内に配置した被処理品の表面硬化処理としてガス窒化処理またはガス軟窒化処理を行う表面硬化処理装置であって、／前記処理炉内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて、前記炉内ガスの水素濃度を検出する水素濃度検出手段と、／前記水素濃度検出手段が検出した水素濃度に基づいて前記アンモニアガスの炉内濃度を演算し、当該演算した炉内濃度の演算値に基づいて前記炉内ガスの組成である炉内ガス組成を演算する炉内ガス組成演算手段と、／前記炉内ガス組成演算手段が演算した炉内ガス組成と予め設定した設定炉内ガス混合比率に応じて、前記炉内ガス組成が前記設定炉内ガス混合比率となるように、行うガス導入量制御手段と、を備える表面硬化処理装置。

（イ）相違点

ガス導入量制御手段が、本件発明１では、「複数種類の炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのに対し、引用発明１－１では、「複数種類の前記炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのか明らかではない点（以下「相違点１－１」という。）。

イ 本件発明１と引用発明１－２との一致点及び相違点

（ア）一致点

前記ア（ア）と同じ。

（イ）相違点

ガス導入量制御手段が、本件発明１では、「複数種類の炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのに対し、引用発明１－２では、「複数種類の前記炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのか明らかではない点（以下「相違点１－２」という。）。

ウ 本件発明１と引用発明２との一致点及び相違点

（ア）一致点

処理炉内で水素を発生するガスとしてはアンモニアガスのみを含む複数種類の炉内導入ガスを前記処理炉内へ導入して、前記処理炉内に配置した被処理品の表面硬化処理としてガス窒化処理またはガス軟窒化処理を行う表面硬化処理装置であって、／炉内ガスの水素濃度を検出する水素濃度検出手段と、／前記水素濃度検出手段が検出した水素濃度に基づいて前記アンモニアガスの炉内濃度を演算し、当該演算した炉内濃度の演算値に基づいて前記炉内ガスの組成である炉内ガス組成を演算する炉内ガス組成演算手段と、／前記炉内ガス組成演算手段が演算した炉内ガス組成と予め設定した設定炉内ガス混合比率に応じて、前記炉内ガス組成が前記設定炉内ガス混合比率となるように、前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量についてのガス導入量制御手段と、を備える表面硬化処理装置。

（イ）相違点

水素濃度検出手段が、本件発明１では、「処理炉内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて」検出する手段であるのに対し、引用発明２では、ＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒであるものの、「処理炉内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて」検出する手段であるのか明らかでない点（以下「相違点２－１」という。）。

ガス導入量制御手段が、本件発明１では、「複数種類の炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのに対し、引用発明２では、「複数種類の前記炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率である炉内導入ガス流量比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を制御する第一の制御と、前記炉内導入ガス流量比率が変化するように前記複数種類の炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御と、の両者を実行可能であるとともに、同時にはいずれか一方の制御のみを選択的に行うガス導入量制御手段」であるのか明らかではない点（以下「相違点２－２」という。）。

エ 本件発明２と引用発明１－２との一致点及び相違点

相違点１－２以外に、以下の点でも相違し（以下「相違点１－３」という。）、その余の点で一致している。

表面硬化処理装置が、本件発明２では、「水素濃度検出配管の温度を制御する配管温度制御手段を備え、前記配管温度制御手段は、前記水素濃度検出配管内で炉内ガスが固体として析出しないように、アンモニアガスに応じて前記水素濃度検出配管の温度を６０～１００℃の範囲内に制御する」との発明特定事項を備えているのに対し、引用発明１－２では、そのような発明特定事項を備えていない点。

オ 本件発明２と引用発明２との一致点及び相違点

相違点２－１、２－２以外に、以下の点でも相違し（以下「相違点２－３」という。）、その余の点で一致している。

表面硬化処理装置が、本件発明２では、「水素濃度検出配管の温度を制御する配管温度制御手段を備え、前記配管温度制御手段は、前記水素濃度検出配管内で炉内ガスが固体として析出しないように、アンモニアガスに応じて前記水素濃度検出配管の温度を６０～１００℃の範囲内に制御する」との発明特定事項を備えているのに対し、引用発明２では、そのような発明特定事項を備えていない点。

４ 取消事由

（１）本件発明１の新規性ないし容易想到性に係る判断の誤り（取消事由１）

ア 引用発明１－１又は１－２を主引用発明とする場合

（ア）引用発明１－１、１－２の認定誤り

（イ）本件発明１の新規性に係る判断の誤り

（ウ）本件発明１の容易想到性に係る判断の誤り

イ 引用発明２を主引用発明とする場合

（ア）引用発明２の認定誤り

（イ）本件発明１の新規性に係る判断の誤り

（ウ）本件発明１の容易想到性に係る判断の誤り

（２）本件発明２の容易想到性に係る判断の誤り（取消事由２）

ア 引用発明１－１又は１－２を主引用発明とする場合

（ア）相違点１－２の容易想到性に係る判断の誤り

（イ）相違点１－３の容易想到性に係る判断の誤り

イ 引用発明２を主引用発明とする場合

（ア）相違点２－１、２－２の容易想到性に係る判断の誤り

（イ）相違点２－３の容易想到性に係る判断の誤り

（３）本件発明３の容易想到性に係る判断の誤り（取消事由３）

（４）本件各発明のサポート要件に係る判断の誤り（取消事由４）

５．裁判所の判断

１ 本件各発明について

－省略－

２ 引用発明について

（１）引用発明１について

引用例１（甲１）にはおおむね以下の記載がある（下記記載中に引用する図表は、別紙１引用例１図表目録参照）。

ア 従来、ガス窒化炉およびガス軟窒化炉の雰囲気管理に関しては、手動ガラス管式アンモニア分析計により不連続に炉内残留アンモニア量をチェックする程度であった。また、連続的に炉内ガスを分析する場合は、サンプリングポンプにより炉内ガスを赤外線アンモニア分析計に導入する方法を採っていた。ただ、この赤外線アンモニア分析計は、ガス軟窒化処理においては、炭酸アンモニウムの析出によりサンプリング経路の詰りが発生しやすい、定期的にフィルター掃除などのメンテナンスの必要がある、分析計が高価であるなどの問題点があり、あまり普及していない。

そこで、炉体に直接装着できる窒化センサによりガス軟窒化炉内の水素濃度を分析し、目的の窒化ポテンシャルに自動制御できる窒化センサ制御システム付きガス軟窒化炉を開発した。（６４頁左欄１～１６行）

イ 窒化炉内の水素濃度を窒化センサにより分析すれば、窒化ポテンシャルを知ることができる。また、希望する窒化ポテンシャルに炉内ガスを調整するには、導入ガス量、ガス種をマスフローコントローラーへ設定信号を送ればよい。（６５頁左欄下から２行～６６頁左欄下から１３行）

ウ 図５は、ピット型ガス軟窒化炉（処理重量：５０ｋｇ／ｇｒｏｓｓ）を用い、窒化温度５７０℃にてＮＨ３とＮ２の流量を変化させることにより窒化ポテンシャルを高い値から低い値まで自在に制御できることを示した記録チャートである。（６６頁左欄下から１２行～下から７行、図５）

エ 図７には、バッチ型ガス軟窒化炉（処理重量：６００ｋｇ／ｇｒｏｓｓ）において、窒化初期は窒化ポテンシャルを高くし、後期には窒化ポテンシャルをある値に低く制御して処理することによりアンモニアガス量およびトータル使用ガス量を大幅に削減できたときの記録チャートを示す。また、そのときの具体的な窒化ポテンシャル制御によるガス使用量削減効果と窒化性能結果を表１に示す。（６６頁右欄下から４行～６７頁左欄下から６行、図７、表１）

（２）引用発明２について

引用例２（甲２）にはおおむね以下の記載がある（下記記載中に引用する図表は、別紙２引用例２図表目録参照）。

ア 熱処理温度および熱処理時間と並んで、炉内の反応ガスの組成を把握して再現性よく制御することは、窒化層の所要の組織を得るために決定的な要素である。これに関して、投入するガスの種類と量、アンモニアの分解、部品（処理品）の性質（たとえば表面積、重量など）、における相違が把握されて調整される。

測定されるガス成分に基づいてプロセスの進行を自動的に制御する場合には、ガス窒化の場合、測定された水素濃度もしくはアンモニア濃度から直接、または前述した窒化センサによって、窒化ポテンシャルＫＮに対する値が計算される。より低く設定されたＫＮ値に対してアンモニアの量が上昇した場合には、分解ガスの添加により減少させる。（１５８頁１～５行、１０～１４行）

イ ＮＨ３－Ｈ２－ＣＯ２混合ガスによる軟窒化のためのＫＮ値を基準にした制御の概念を図４－３７に示した。３つのガス成分の比例的な変化に従って、最大ないし最小許容ガス投入量の限界領域内で、窒化ポテンシャルＫＮは変動され得る。炉内でのプロセス進行のターゲットを図４－３８に示した。混合ガスによる軟窒化において、より低い窒化ポテンシャルＫＮの調整が必要な場合には、ガス投入量の削減でそれを達成するのはもはや不可能で、分解ガス添加が可能な図４－３９に示された制御概念に拡張する必要がある。（１６０頁１～６行、図４－３７～図４－３９）

ウ また、プロセスの進行は、プログラム化され得て、終了後にはドキュメント化され得る。（１６２頁５、６行、図４－４０）

３ 取消事由１（本件発明１の新規性ないし容易想到性に係る判断の誤り）について

（１）引用発明１－１又は１－２を主引用発明とする場合

ア 引用発明１－１、１－２の認定

（ア）引用例１の前記２（１）の記載によれば、引用発明１－１、１－２は、前記第２の３（２）ア記載のとおりであることが認められる。

（イ）原告の主張について

ａ 原告は、「窒化ポテンシャル制御（前記１（６）ア及びイ）の際のＮＨ３ガス流量を一定とすれば、ＮＨ３の熱分解度が一定となり、窒化ポテンシャルは一定となる」旨の本件審決の技術常識の認定は誤りであり、その結果、引用発明１－１、１－２の認定も誤っている旨主張する。

この点について検討すると、甲１１には、「アンモニアの熱分解度は、流量に依存する。遅い流れは、反応領域での長い滞留時間のため、高い熱分解度をもたらす。速い流れは、熱分解度を低くし、それによって、未分解のアンモニアの量を増加させ、窒化ポテンシャルＮｐの値を上昇させる」ことが記載されている。これによれば、甲１１には、「アンモニアの熱分解度は、流量に依存する」ことが記載されているが、アンモニアガス流量を一定とすれば、ある期間において、アンモニアの熱分解度が一定であることは記載されていない。また、「速い流れは、熱分解度を低くし、窒化ポテンシャルの値を上昇させる」ことが記載されているが、アンモニアガス流量を一定とすれば、窒化ポテンシャルの値は一定になることは記載されていない。

また、甲１１の図４をみると、窒化ポテンシャル制御可能範囲では、アンモニアガス流量に対して窒化ポテンシャルの値が右肩上がりに増加しており、アンモニアガス流量をある値とすれば、窒化ポテンシャルの値が一義的に決まることは読み取れる。しかし、図４にはアンモニアの熱分解度は記載されていないので、アンモニアガス流量とアンモニアの熱分解度の関係を読み取ることはできない。そして、図４には、アンモニアガス流量に対する窒化ポテンシャルの値が記載されているにとどまり、時間軸の記載はないから、アンモニアガス流量を一定とした場合に、ある期間において、アンモニアの熱分解度と窒化ポテンシャルが一定となることが視認されるとはいえない。実際、炉内の温度や圧力がアンモニアの熱分解度に影響を与えることは、本件出願前に知られたことであるから（乙１）、窒化処理を実施する際、ＮＨ３ガス流量を一定に維持しても、窒化処理の進行に応じて、炉内の温度や圧力がアンモニアの熱分解度に影響を与えることが考えられる。したがって、ＮＨ３ガス流量を一定とすれば、ＮＨ３の熱分解度が一定であるとはいえないし、窒化ポテンシャルが一定であるともいえない。

さらに、甲１１の記載を総合的に検討しても、本件審決認定の「窒化ポテンシャル制御の際のＮＨ３ガス流量を一定とすれば、ＮＨ３の熱分解度が一定となり、窒化ポテンシャルは一定となる」旨の技術常識を導くことはできず、他に上記技術常識を認めるに足りる証拠はない。

以上のとおり、本件審決における技術常識の認定には誤りがある。しかし、引用発明１－１、１－２の認定は、ＮＨ３ガス流量が一定であることを前提とするものではなく、したがって前記の誤った技術常識を前提とするものではないから、技術常識の認定が誤っているからといって、引用発明１－１、１－２の認定が誤っていることにはならない。

ｂ 原告は、炉内ガス組成に対応するパラメータである窒化ポテンシャルは変動するから、この窒化ポテンシャルの変動範囲を小さく抑制するために、炉内ガス組成の変動の情報がガスセンサによって検出されて、炉内への各ガスの導入量がマスフローコントローラーによってフィードバック制御されることが、本件出願時における当業者の技術常識であった（甲２９～３１、３４、３５）として、かかる技術常識に基づけば、本件審決の引用発明１－１、１－２の認定は、炉内のＮＨ３の熱分解度ｓの変動に起因する窒化ポテンシャルの変動を抑制するべく、ガスの導入量をフィードバック制御することを看過した点において、誤っていると主張する。

しかし、本件各発明の発明者の一人である河田一喜の執筆した刊行物（甲３０、３１）には、ＮＨ３の熱分解度の変動による窒化ポテンシャルの変化を補正するために、窒化処理中に炉内の雰囲気センサを利用して窒化ポテンシャルを演算し、各導入ガス流量をフィードバック制御する技術が記載されているが、河田一喜の執筆した他の刊行物（甲２９、３４、３５）には、必ずしもフィードバック制御を意味しない「自動制御」と記載されているにすぎず（甲２９、３４）、また、本件各発明とは分野を異にする浸炭のフィードバック制御に関して記載されているにすぎない（甲３５）。そして、執筆者を異にする刊行物（甲３６）には、モニタリングして制御する旨の記載があるにすぎず、いかなる制御であるかは定かでない。これら記載を総合すれば、「窒化ポテンシャルの変動範囲を小さく抑制するために、炉内ガス組成の変動の情報がガスセンサによって検出されて、炉内への各ガスの導入量がマスフローコントローラーによってフィードバック制御されること」が当業者の技術常識であったとは認め難い。そして、引用例１の図５、図７等の記載（前記２（１）ウ及びエ）をみると、「ガス種と導入ガス量とについての設定信号をマスフローコントローラーへ送ると炉内ガスを調整でき、窒化ポテンシャルを自動制御できること」、「炉内のＨ２濃度、窒化ポテンシャルＫＮが特定値となるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整すること」、「水素濃度についての測定値及びその測定値から求まる窒化ポテンシャルの値についての時間の推移に伴う小刻みな変動がそれぞれ生じたこと」を認識することはできるが、引用例１には「ＮＨ３の熱分解度ｓ」と「ＮＨ３ガスを含む導入されるガスの総流量」の関係について記載されていないから、「ＮＨ３の熱分解度ｓの変化に応じて、ＮＨ３ガスを含む導入されるガスの総流量を制御する」ことを認識することができない。

したがって、引用例１の記載から「窒化ポテンシャルＫＮの値について設定された目標を達成するため、炉内におけるＮＨ３の熱分解度ｓの変化に応じて、ＮＨ３ガスを含む導入されるガスの総流量を制御する」ことを読み取ることはできない。

よって、引用例１の記載から、「炉内のＮＨ３の熱分解度ｓの変動に起因する窒化ポテンシャルの変動を抑制するべく、ガスの導入量をフィードバック制御すること」を読み取ることはできない。

ｃ 以上のとおり、原告の主張はいずれも理由がない。

イ 本件発明１の新規性に係る判断の誤り

（ア）引用発明１－１との関係

ａ 本件発明１と引用発明１－１との間には、前記第２の３（３）ア（イ）記載のとおり、相違点１－１が認められる。

ｂ 相違点１－１について

引用例１の図５（前記２（１）ウ）には、ガス種と導入ガス量とについての設定信号をマスフローコントローラーへ送ると炉内ガスを調整でき、窒化ポテンシャルを自動制御できるという窒化センサ制御システム付きピット型ガス軟窒化炉において、ＮＨ３とＮ２のみを使用し、窒化温度５７０℃にて炉内のＨ２濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、それぞれ、初期には２８Ｖｏｌ％、４．２制御、中期には４０Ｖｏｌ％、１．８制御、後期には５０Ｖｏｌ％、０．９制御となるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整することにより、炉内ガスの窒化ポテンシャルを高い値から低い値まで制御できたことが記載されていると認められる。

そうすると、引用例１の図５から、ピット型ガス軟窒化炉において、炉内のＨ２濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、初期、中期、後期で特定値に制御されるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整することにより、炉内ガスの窒化ポテンシャルを高い値から低い値まで制御できたことが開示されていると認められるが、ＮＨ３及びＮ２の導入ガスについて、具体的な制御方法が記載されておらず、流量比率を一定値としているのか、変化させているのか、導入ガスの導入量を個別に制御しているのか否か不明であり、また、導入ガスの合計導入量を制御しているのか否かも不明である。したがって、引用例１の図５がいかなる制御方法を採用しているかは不明であり、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」を採用していると認めることはできないから、相違点１－１は実質的な相違点である。

ｃ よって、本件発明１が引用発明１－１であるということはできない。

（イ）引用発明１－２との関係

ａ 本件発明１と引用発明１－２との間には、前記第２の３（３）イ（イ）記載のとおり、相違点１－２が認められる。

ｂ 相違点１－２について

引用例１の図７（前記２（１）エ）には、ガス種と導入ガス量とについての設定信号をマスフローコントローラーへ送ると炉内ガスを調整でき、窒化ポテンシャルを自動制御できるという窒化センサ制御システム付きバッチ型ガス軟窒化炉において、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２のみを使用し、窒化温度５８０℃にて炉内の水素濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、それぞれ、初期は１５Ｖｏｌ％、７．５制御、後期には２３Ｖｏｌ％、３．１制御となるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整すると、図７の後期には、水素濃度についての測定値及びその測定値から求まる窒化ポテンシャルの値が時間の推移に伴って、それぞれ、２３Ｖｏｌ％付近、３．１付近で小刻みに変動したことが記載されていると認められる。

そうすると、引用例１の図７から、バッチ型ガス軟窒化炉において、炉内のＨ２濃度、窒化ポテンシャルＫＮが、初期、後期で特定値に制御されるように、ＮＨ３とＮ２のそれぞれの導入ガス量についての設定信号をマスフローコントローラーへ送って炉内ガスを調整することにより、炉内ガスの窒化ポテンシャルを高い値から低い値まで制御できたことが記載されていると認められるが、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２の導入ガスについて、具体的な制御方法が記載されておらず、流量比率を一定値としているのか、変化させているのか、導入ガスの導入量を個別に制御しているのか否か不明であり、また、導入ガスの合計導入量を制御しているのか否かも不明である。したがって、引用例１の図７がいかなる制御方法を採用しているかは不明であり、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」を採用していると認めることはできないから、相違点１－２は実質的な相違点である。

ｃ よって、本件発明１が引用発明１－２であるということはできない。

（ウ）原告の主張について

ａ 原告は、炉内におけるＮＨ３の熱分解度ｓの変化に応じて変動する窒化ポテンシャルを所望の範囲に制御するために、引用例１の窒化センサ制御システムが、炉内ガスの濃度を「応答性が速い」窒化センサによって測定して、「炉内ガスの切替りが速い」マスフローコントローラーを用いてフィードバック制御していることは明らかであると主張する。

しかし、前記（ア）及び（イ）のとおり、引用例１には、導入ガスについて、具体的な制御方法は記載されておらず、流量比率を一定値としているのか、変化させているのか、導入ガスの導入量を個別に制御しているのか否か不明であり、また、導入ガスの合計導入量を制御しているのか否かも不明であるから、フィードバック制御していることが明らかであるとはいえない。

ｂ 原告は、甲９によれば、図８（引用例１の図５）において、炉内ガス導入比率ＮＨ３：Ｎ２を比例関係に保ちながら導入ガス総流量制御が小刻みに行われていることは、当業者であれば自明である、また、表１における①の制御から②の制御、②の制御から③の制御への移行時において、炉内ガス導入比率ＮＨ３：Ｎ２を変化させていることも明らかである、つまり、図８をみれば、本件発明１における第一の制御と第二の制御が行われていることは、明らかであると主張する。また、引用例１の図７についても同旨の主張をする。

しかし、甲９によって、引用例１の図５、７における「炉内ガス導入比率ＮＨ３：Ｎ２」が算出されるが、引用例１の図５の①ないし③、図７の①及び②の範囲のそれぞれにおいて、水素濃度についての測定値及びその測定値から求まる窒化ポテンシャルの値が時間の推移に伴って小刻みに変動していること、すなわち、何らかの制御が行われていることは読み取れるが、導入ガス総流量が制御されていることを読み取ることができないから、「炉内ガス導入比率ＮＨ３：Ｎ２」を比例関係に保ちながら、導入ガス総流量制御が小刻みに行われていることが記載されているとはいえないことは、前記（ア）及び（イ）のとおりである。

ｃ 以上のとおりであるから、原告の各主張はいずれも理由がない。

ウ 本件発明１の容易想到性に係る判断の誤り

（ア）前記イのとおり、相違点１－１、１－２は実質的な相違点である。

（イ）相違点１－２について、引用発明１－２と引用発明２とは同じガス種ＮＨ３とＮ２とＣＯ２のみを使用する窒化センサ制御システム付きバッチ型ガス軟窒化炉に関するものであるから、引用発明１－２と引用例２の記載事項の組合せを検討すると、前記イ（イ）のとおり、引用発明１－２がいかなる制御方法を採用しているのかは不明であること、後記（２）ア（イ）のとおり、引用例２においては、実際のプロセスの進行状態では、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２との比率が一定となっているとは認められないことからすれば、上記組合せによっては、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」（相違点１－２）の構成には到達しない。

（ウ）ほかに、本件出願当時に存在した技術から、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」（相違点１－１、１－２）を容易に想到することができたとは認め難い。

（エ）小括

以上のとおり、引用発明１－１又は１－２を主引用発明として、本件発明１を容易に想到することができたということはできない。

エ 小括

以上によれば、本件発明１は、引用発明１－１又は１－２に基づいて、新規性及び進歩性を欠くとはいえない。また、本件審決の技術常識の認定の誤りは、結論に影響しない。

（２）引用発明２を主引用発明とする場合

ア 引用発明２の認定

（ア）引用例２の前記２（２）の記載によれば、引用発明２の制御方法について、前記第２の３（２）イのとおりの引用発明２が記載されていることが認められる。この認定は、ＮＨ３ガス流量が一定であることを前提とするものではなく、したがって前記（１）ア（イ）ａの誤った技術常識を前提とするものではないから、技術常識の認定が誤っているからといって、引用発明２の認定が誤っていることにはならない。

よって、本件審決の引用発明２の認定に誤りはない。

（イ）原告の主張について

原告は、炉内ガス組成に対応するパラメータである窒化ポテンシャルは変動するのであって、この窒化ポテンシャルの変動範囲を小さく抑制するために、炉内ガス組成の変動の情報がガスセンサによって検出されて、炉内への各ガスの導入量がマスフローコントローラーによってフィードバック制御されることが、本件出願時における当業者の技術常識であった（甲２９～３１、３４、３５）として、かかる技術常識に基づけば、本件審決の引用発明２の認定は誤っていると主張する。

しかし、前記（１）ア（イ）ａのとおり、本件審決における技術常識の理解には誤りがあるが、引用発明２の認定に当たり、当該技術常識に基づいた認定はされていない。そして、前記（１）ア（イ）ｂのとおり、甲２９ないし３１、３４、３５記載の技術事項が当業者の技術常識であったとは認め難い。

また、引用例２の図４－３７及び図４－３８の記載（前記２（２）イ）をみると、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２とが、それぞれ、５０％、４５％、５％混合された、ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスによる軟窒化のための制御装置であって、ＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒを用いて測定された炉内水素濃度Ｈ２を利用して計算される、９から４の間の窒化ポテンシャルＫＮを基準にして前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量が最大ないし最小許容ガス投入量の限界領域内で調整できるが、より低い窒化ポテンシャルＫＮの調整が必要な場合にはガス投入量の削減では達成できない制御装置、すなわち、前記窒化ポテンシャルＫＮが４に設定されると、前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量は最小許容ガス投入量に調整され、前記窒化ポテンシャルＫＮが９に設定されると、前記ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスの合計導入量は最大許容ガス投入量に調整される制御装置が視認される。

ここで、図４－４０（前記２（２）ウ）はドキュメント化された「レトルト炉での軟窒化のプロセスの進行の様子」であって、図４－３８の実際のプロセスの進行状態を示したものと認められるが、ＫＮが一定値である期間（約１．２５～３．５ｈ）において、混合ガス中のＮＨ３とＮ２とＣＯ２の流量値は激しく変動しており、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２との比率が一定であると認めることができない。そうすると、図４－３８は、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２とが、それぞれ、５０％、４５％、５％混合された、ＮＨ３－Ｎ２－ＣＯ２混合ガスと図示されているが、図４－４０からみて、実際のプロセスの進行状態では、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２との比率が一定となっているとは認められない。

したがって、引用例２の記載をみても、「複数種類の炉内導入ガスの処理炉内への導入量の比率を一定値に保持した状態で前記複数種類の前記炉内導入ガスの前記処理炉内への合計導入量を前記窒化ポテンシャルＫＮに応じてフィードバック制御して増減する」ことを認識することはできないから、原告の主張は理由がない。

イ 本件発明１の新規性に係る判断の誤り

（ア）本件審決の相違点の認定について

ａ 本件発明１と引用発明２との間には、前記第２の３（３）ウ記載のとおり、相違点２－２が認められる。

ｂ 一方、引用発明２の水素濃度検出手段に関し、引用例２（甲２）には、ＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒについて、以下のとおり記載されている。

窒化の場合に、炉内の残留アンモニア濃度φＲ（ＮＨ３）と水素濃度φＲ（Ｈ２）との計測値が、窒化ポテンシャルＫＮの決定に利用される（１５４頁１２、１３行）。

費用がかからない手段は、アンモニアと窒素とがほとんど同じ熱伝導率を有するために、熱伝導率の変化によって炉排気ガス内の水素の濃度を決定する方法である。他からの影響を受けにくい測定方法（図４－３１：水素濃度の測定の原理）として、工業用にも使用されている。

ＨｙｄｒｏＮｉｔ－ＳｅｎｓｏｒはＰＨ２（水素濃度）を計測している（図４－３５～４－３９）。

ｃ そうすると、引用例２の記載から、熱伝導率の変化によって炉排気ガス内の水素の濃度を決定すること、水素センサは「ＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒ」であり、水素濃度を計測していることが明らかであるから、引用例２に記載のＨｙｄｒｏＮｉｔ－Ｓｅｎｓｏｒは、熱伝導率に基づいて、水素濃度を測定するセンサであると考えるのが自然である。

したがって、相違点２－１は認められないので、本件審決の相違点の認定には誤りがあるが、後記（イ）のとおり、相違点２－２が実質的な相違点であるから、上記認定の誤りは、本件審決の結論に影響する違法とはいえない。

（イ）相違点２－２について

引用例２の記載を検討すると、前記ア（イ）のとおり、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２の導入ガスについて、流量比率を一定値としているとは認められず、その前後の期間を含めても、導入ガス流量比率が変化するように導入ガスの導入量を個別に制御しているとも認められないから、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」が行われていることが記載されていると認めることができない。

よって、相違点２－２は実質的な相違点であり、本件発明１が引用発明２であると認めることはできない。

（ウ）原告の主張について

原告は、引用発明２では、炉内へ導入されるＮＨ３とＮ２とＣＯ２との各ガスの流量比率が一定値に保持された状態で、これらのガスの総導入量（合計導入量）が制御されていることから、本件発明１の「第一の制御」が開示されていることは明らかである、また、引用発明２では、「第一の制御」の前後において、炉内へ導入されるＮＨ３とＮ２とＣＯ２との各ガスの流量比率が変化するようにこれらのガスの導入量が個別に制御されていることから、本件発明１の「第二の制御」が開示されていることも明らかであると主張する。

しかし、前記ア（イ）のとおり、引用例２の記載から、実際のプロセスの進行状態では、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２の導入ガスについて、流量比率を一定値としているとは認められず、導入ガス流量比率が変化するように導入ガスの導入量を個別に制御しているとも認められない。

したがって、原告の主張は理由がない。

ウ 本件発明１の容易想到性に係る判断の誤り

前記イのとおり、相違点２－２は実質的な相違点である。そして、前記（１）ウ（イ）及び（ウ）と同様に、引用例１の記載事項や本件出願当時に存在した技術から、本件発明１の「第一の制御」及び「第二の制御」（相違点２－２）を容易に想到することができたとは認め難い。

エ 小括

以上によれば、本件発明１は、引用発明２に基づいて、新規性及び進歩性を欠くとはいえない。

４ 取消事由２（本件発明２の容易想到性）

（１）引用発明１－２を主引用発明とする場合

ア 本件発明２と引用発明１－２との間には、前記第２の３（３）エ記載のとおり、相違点１－２、１－３が認められる。

イ 相違点１－２の容易想到性

前記３（１）ウのとおり、引用発明１－２及び引用例２の記載事項によって、当業者が、第一の制御及び第二の制御を想到することができないから、相違点１－２を容易に想到することができたとは認め難い。

また、引用例３及び４には、導入ガスの制御等について記載されていないから、引用例３及び４の記載事項によっても、当業者が、相違点１－２を容易に想到することができたとは認め難い。

ウ 相違点１－３の容易想到性

引用例３及び４に記載されているのは、非分散型赤外分析計（ＮＤＩＲ）を用いるガス分析装置への炭酸アンモニウムの結晶の生成防止に関する技術事項である。一方、引用例１に記載されているのは、処理炉内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて前記炉内ガスの水素を検出する水素濃度検出手段であって、炉体に直接装着されており、寿命が長く、ノーメンテナンスであり、炭酸アンモニウムの析出の問題がないという特徴を有するものである。

そうすると、引用発明１－２における水素濃度検出手段と、引用例３及び４に記載されている、非分散型赤外分析計（ＮＤＩＲ）とは、検出手段において相違しており、引用発明１には、引用例３及び４の炭酸アンモニウムの結晶の生成防止という課題は存在しないから、引用発明１－２における水素濃度検出手段に引用例３及び４に記載の技術事項を組み合わせようとする動機付けがあるとはいえない。

エ したがって、本件発明２は、引用発明１－２及び引用例３及び４の記載事項から、当業者が容易に発明をすることができたものではない。

（２）引用発明１－１を主引用発明とする場合

引用発明１－２と本件発明２はガス種が共通であるのに対し、引用発明１－１と本件発明２はガス種が異なる。使用するガス種の変更は、引用発明１－１による処理内容を、窒化処理から軟窒化処理に変更するという、発明内容の変更を伴うものであるから、そのような動機付けは認め難い。

したがって、本件発明２は、引用発明１－１から、当業者が容易に発明をすることができたものではない。

（３）引用発明２を主引用例発明とする場合

ア 本件発明２と引用発明２との間には、前記第２の３（３）オ記載のとおり、相違点２－２、２－３が認められる。一方、前記３（２）イ（ア）のとおり、相違点２－１は認められないので、本件審決の相違点の認定には誤りがあるが、前記３（２）イ（イ）のとおり、相違点２－２が実質的な相違点であるから、上記認定の誤りは、本件審決の結論に影響する違法とはいえない。

イ 相違点２－２の容易想到性

前記３（２）ア（イ）のとおり、引用例２では、ＮＨ３とＮ２とＣＯ２の導入ガスについて、流量比率を一定値としているとは認められず、その前後の期間を含めても、導入ガス流量比率が変化するように導入ガスの導入量を個別に制御しているとは認められないから、第一の制御及び第二の制御が行われていることが記載されていると認めることができないし、引用例３及び４には、導入ガスの制御等について記載されていない。

よって、引用発明２に引用例３及び４の記載事項を組み合わせても、相違点２－２に係る構成には至らない。

ウ 相違点２－３の容易想到性

前記３（２）イ（ア）のとおり、引用例２に記載されているのは、処理炉内の炉内ガスの熱伝導度に基づいて前記炉内ガスの水素を検出する水素濃度検出手段である。

そうすると、引用発明２における水素濃度検出手段と、引用例３及び４に記載されている非分散型赤外分析計（ＮＤＩＲ）とは相違しており、引用例２には、引用例３及び４の炭酸アンモニウムの結晶の生成防止という課題は明記されていないから、引用発明２における水素濃度検出手段に引用例３及び４に記載の技術事項を組み合わせようとする動機付けがあるとはいえない。

エ 小括

したがって、本件発明２は、引用発明２及び引用例３及び４の記載事項から、当業者が容易に発明をすることができたものではない。

５ 取消事由３（本件発明３）

本件発明３は、本件発明１又は２に従属する請求項であるところ、前記３のとおり、本件発明１について新規性及び進歩性の欠如は認められず、また、前記４のとおり、本件発明２について進歩性の欠如は認められない。

したがって、本件発明３について、進歩性の欠如が認められないことは明らかである。

６ 取消事由４（サポート要件）

（１）特許請求の範囲の記載が、サポート要件に適合するか否かは、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものであり、サポート要件の存在は、特許権者が証明責任を負う。

（２）前記１によれば、本件訂正明細書に接した当業者は、以下の点を理解することができる。

水素濃度検出手段４は、炉内ガスの水素濃度を検出可能な構成の熱伝導度センサにより形成されており、炉内ガスの水素濃度は、炉内ガスの熱伝導度に基づいて検出する。炉内ガス組成演算手段２４は、水素濃度検出手段４が検出した水素濃度に基づいて、炉内ガスの組成である炉内ガス組成を演算する。炉内ガス組成信号の入力を受けたガス導入量制御手段２６は、炉内ガス組成と設定炉内ガス混合比率に応じて、炉内ガス組成が設定炉内ガス混合比率となるように、複数種類の炉内導入ガスの処理炉２内への導入量を制御する。（前記１（６）ウ）

ガス導入量制御手段２６が、アンモニアガス（ＮＨ３）及び窒素ガス（Ｎ２）の導入量を制御する際は、第一の制御、第二の制御の二通りの制御のうち、一方を行う。複数種類の炉内導入ガスの処理炉２内への導入量を制御して、処理炉２内の雰囲気を制御した状態で、被処理品Ｓの材質や量等に応じて設定した所定の時間、被処理品Ｓの表面硬化処理を行う。（前記１（６）ウ）

実施例において、本件各発明の表面硬化装置によれば、水素濃度の設定値と、水素濃度検出手段により検出した炉内ガスの水素濃度とを比較し、炉内水素濃度、炉内アンモニア濃度を、それぞれ、制御することが可能である（第一実施例）。水素濃度検出手段４のセンサ部に、炭酸アンモニウムの析出は発生していなかった。水素濃度検出手段４の精度がフルスケールに対して０．５％以内の誤差しか生じていない（第二実施例）。炉内導入ガスの使用量を大幅に削減することが可能となり、表面硬化処理に要するランニングコストを減少させて、経済的効果を達成するとともに、大気中へのガス排出量を減少させて、環境の悪化を抑制することが可能となる（第三実施例）。（前記１（６）エ）

（３）前記（２）によれば、当業者は、本件訂正明細書の記載から、本件発明１の各手段を備える表面硬化処理装置によって、「炉内ガスの熱伝導度に基づいて処理炉内の雰囲気を検出し、この検出した雰囲気を参照して処理炉内の雰囲気を制御することが可能な、表面硬化処理装置及び表面硬化処理方法を提供すること」（前記１（３））という課題を解決できることを認識できるといえる。

ここで、当業者が課題を解決できることを認識できる否かにおいて、本件審決の認定した「窒化ポテンシャル制御の際のＮＨ３ガス流量を一定とすれば、ＮＨ３の熱分解度が一定となり、窒化ポテンシャルは一定となるとの技術常識」は何ら関係していない。

（４）したがって、当業者は、本件訂正明細書の記載に基づき、本件各発明の表面硬化処理装置によって、本件各発明の課題を解決できると認識し得るものということができるから、サポート要件を満たすものである。

６．検討

（１）本件発明は、要は、金属の表面を窒化処理して硬化させる装置において、処理炉内に導入する複数のガスのうちの一種類をアンモニアガスとして、アンモニアガスから分解された水素の濃度を検出する水素濃度検出手段と、これからアンモニアガスの炉内濃度を演算し、これから炉内ガスの組成を求める炉内ガス組成演算手段とを備え、この炉内ガス組成が設定炉内ガス混合比率となるように、炉内導入ガスの流量比率を一定値に保持した状態で複数種類の炉内導入ガスの合計導入量を制御する第一の制御、炉内導入ガス流量比率が変化するように炉内導入ガスの導入量を個別に制御する第二の制御、これら二つの制御を同時あるいはいずれか一方の実行するものです。なお、請求項１は真空浸炭処理のために無効主張の対象にならなかったと思われます。

（２）特許無効審判では請求人から新規性要件違反、進歩性要件違反及びサポート要件違反が主張されましたが、審決は請求不成立、つまり特許は有効と判断されたため、この審決の取消しを求めて請求人が原告となって本件訴訟を起こしました。

（３）しかし、判決は請求棄却であって依然として特許は有効と判断されました。ポイントは引用発明１に原告が主張する内容（フィードバック制御）が開示されているといえるのか否かという点でしたが、裁判所の判断はどのような制御が行われているのか不明である、というものでした。これにより、この引用発明単独、あるいは他の引用発明と組み合わせても本件発明の構成要件を全て開示されていることにならないため無効にはなりませんでした。

（４）引用発明１は非特許文献なので入手していません。そのため判決について確認ができませんでした。したがって、確定的なことは書けませんが、要は例え原告の主張通り引用発明１の装置にフィードバック制御が搭載されていたとしても、引用発明１にそのことについて明記（あるいは明らかに推測できる程度の記載）されていなければ制御を特定することは難しいということです。

（５）これは無効資料を検討する際によくあります。つまり先行技術文献の調査機関から挙がった複数の文献に基づいて無効主張の構築を検討する際に技術者の目線からすると、文献に明記されていないが特定の制御以外は考えられない、という場合です。しかし、本件のように判断される可能性もあるので注意が必要です。

（６）本件で無効の証拠として挙げられた引用発明１は、特許明細書の中でも引用された発明者自身が執筆した文献でした。無効の証拠の主引例として出願人が作成した先行技術文献を検討するのは常套手段といえます。発明者が過去に発表した論文、講演といったものは無効主張を構築する上で重要なものです。余裕があれば、発明者が過去に聴講した講演もチェックすると、大当たりがあるかもしれません。